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Anskin Centella Modeling Mask 積雪草保濕修復面膜

Anskin Centella Modeling Mask 積雪草保濕修復面膜

HK$250.00
HK$199.00
2017/04/15到貨,立即預訂!
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Description

Anskin Centella Modeling Mask
積雪草保濕修復面膜

NO防腐劑:不含任何防腐劑
NO滑石粉:不含任何需要懷疑的成分
NO石棉:不含任何致癌物質,可以安心使用
NO礦物油:不含有任何易引起痘痘的礦物油成分
NO人工香:不含有任何易引起痘痘的成分
YES矽藻土:使用加利福尼亞產最高級的矽藻土
YES低刺激化妝品:由天然成分和食品添加用的成分製造而成刺激性極低
YES水解玉米澱粉:用高價原料代替低價玉米澱粉
YES孕婦:全部成分都很安全孕婦可放心使用

<功效>
對改善凹凸洞,去印,舒緩,補濕同降紅特別好!
更加以預防黑色素形成 令皮膚自然透白
刺激膠原蛋白增生 加強皮膚修復能力
收毛孔 對於改善敏感同泛紅有特別顯著既功效
令皮膚唔再粗糙有彈性光澤
高保濕成份打破左一般粉MASK會比較乾既特性
令皮膚敷完更加柔軟
軟模粉可以深入毛孔
排出毛孔入面既廢物
潔淨肌膚同強化皮膚
提高皮膚自生能力
呢款軟膜粉大量含有保濕成分
可以保持皮膚水潤柔滑

<使用方法>
精華液 / 建議配合Anskin 安瓶兩者配合起來效果更佳, 使用調配好的面膜粉均勻塗抹, 15~20分鐘撕走, 沖洗
(建議要厚敷,搽太薄會乾得較快,搽厚D可敷到15-20分鐘,效果更明顯。
撕走面膜時,要由下而上,咁就唔會令到皮膚向下拉扯,造成鬆弛。)

<調配比例> 
用專用工具 按照一次50克面膜 + 35克的水調配。在加水的時候不要過多,多了會太浠.
(專用工具我地係送埋俾你架, 一盒面膜粉送一set ,包括一個碗+ 一支膠刀+ 一個數量膠匙)













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